主要从事仿生功能界面材料的制备及物理化学性质的研究,看待揭示了自然界中具有特殊浸润性表面的结构与性能的关系,看待提出了二元协同纳米界面材料设计体系。
PRI图案化的特别之处在于保留了绝缘区域中MNW的痕迹,东京第可以有效地消除导电和绝缘区域之间的光学差异,实现MNW图案光学消影。此外,残奥层式组装方法应同时改善抗腐蚀性、热稳定性、导电性、附着力、表面粗糙度。
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暨南大学学生陈盈和梁天炜为该论文的共同第一作者,看待罗云瀚教授和刘贵师博士为共同通讯作者。PRI自组装是通过对MNW网络进行结构化修饰,东京第来选择性诱发PRI而构成图案的一种新型图形化方法。
残奥层式三维或剪纸结构的MNWSEs具有>200%的高拉伸性。
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